600846_ 光刻胶的质量和性能是影响半导体产品性能、产品率、可靠性的关键因素

半导体的核心是工艺,而工艺的核心是设备和质料。在芯片行业遭受进一步围追堵截的困境之下,国产化势在必行。

未来,我们将用近20篇文章历数半导体行业的每一个细分领域的竞争格局,但愿从每一个细分赛道中能够遴选出2-3个最有但愿实现国产化的龙头公司。

本文从半导体质料之光刻胶出发,

光刻胶属于半导体八大核心质料之一,据全球半导体行业协会数据,光刻胶在半导体质料价值中占比近6%,光刻辅助试剂占比7!4%,二者共占13!4%。是继硅片和电子气体之外的第三泰半导体质料。

1!财富链

光刻胶是半导体工艺中光刻时用到的一种特殊液体。各位看官需注意其光刻胶和光刻机是半导体行业中完全差异的两个细分领域,光刻胶隶属于半导体质料,光刻机属于半导体设备。

二者独一的联系是其同属于光刻(用光制作图形)工艺。

2!竞争关键词其

1!技术门槛高它

光刻胶是一种经过严格设计的复杂、精密的配方产物。高端光刻胶对付产物的分辨率、比拟度、敏感度等要求非常高。光刻胶的质量和性能是影响半导体产物性能、产物率、可靠性的关键因素。

2!市场集中度高它

由于产物用量小、对品质要求高,而光刻胶自己的下游应用行业又非常少,只有三种其PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶,并且下游的采购商全下属于大型企业,从而使得业内只有几家公司能保留。

这一点,从光刻胶的全球竞争格局可见一斑其

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